真空電鍍主要包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們（men）都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表麵沉積各（gè）種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的（de）方式可以得到（dào）非常薄的表麵鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進（jìn）行操作的金屬類型較少，一般用來作較高（gāo）檔產品的功能性鍍層，例如作為內部屏蔽層使用。
真空電鍍工藝的特點有：
1.真空電鍍所鍍的金屬膜（mó）層是需要（yào）比較薄的，應該在0.01-0.1微米，並（bìng）且可以（yǐ）嚴格的複製出鍍（dù）件表麵（miàn）的（de）形狀；
2.真（zhēn）空電鍍的工藝使用電壓不是很高，應該在200V，工藝流程比較簡單；
3.工藝所使用的蒸鍍鍋瓶的容積比（bǐ）較小，電鍍（dù）件的出數（shù）件比較少，生產效率比較低；
4.真空電鍍工（gōng）藝隻限於比（bǐ）鎢絲熔（róng）點比較低的金屬，如鋁、銀、銅、金等等鍍件飾品；
5.真空電鍍的工藝質量要求（qiú）比（bǐ）較高，電鍍之前必須要打底油來彌補工件（jiàn）表麵存在的一些不足；
6.真空電鍍工藝可以鍍的塑料件材質有許多，包括（kuò）ABS、PE、PVC等等。
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