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真空電鍍具有的特點（diǎn）

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來源（yuán）： 發布日期：2021-03-15
 真空電鍍的特點

 
     1、真空鍍膜所獲得的（de）金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um)，能夠嚴格複製出啤件表麵的形。
     2、工作電壓不是很高(200V)，操作（zuò）方（fāng）便，但設備較昂貴。
     3、蒸（zhēng）鍍鍋瓶容積小，電鍍件出數少，生產效率較低。
     4、隻限於比鎢絲熔點低的金屬(如鋁（lǚ）、銀、銅、金等)鍍飾（shì）。
     5、對鍍件表麵質（zhì）量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補工件表麵缺陷。
     6、真空鍍膜可以（yǐ）鍍多種塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMA等（děng）
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