真空管鍍膜的原理是（shì）電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大星的氬離子和電子，電子飛向基片。氬（yà）離子在電場的作用下加速轟擊靶材，湘射出大量的靶材原子，呈中性的（de）靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。
二次電（diàn）子在加速（sù）飛向基片的過程中受到磁場洛侖（lún）磁力（lì）的影響，被束嬉在靠近靶（bǎ）麵的等離子體區域內，該區域內等離子休密度很高，二次電子在磁場的作（zuò）用下圍繞靶麵作圓周運動（dòng），該電子的運動路徑很長，在運動過程中不斷的與氬原子發生（shēng）碰撞電離出大星的氬離子轟擊（jī）靶材（cái），經過多次碰撞（zhuàng）後電子的能星逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材，最終沉積在基片上（shàng）。
現在加上中頻磁（cí）控濺（jiàn）射靶用磁控射靶將膜（mó）體的蒸發分子在電場的作用下加（jiā）速轟擊靶材，洪射出大星的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子沉積在基片上成膜，解（jiě）決了過去自然蒸發無（wú）法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鈷等等。
目前真（zhēn）空管膜層普遍采（cǎi）用鋁氮複合膜，整個膜層分內、中、外三層，各（gè）有（yǒu）其作用，內層為（wéi）反射（shè）層，主要作用（yòng）是阻I止管中熱水（shuǐ）的（de）熱星向外輻射中層為吸收層，主要作用是吸收光能，並轉化成熱能;外層為減反層，主要作用是減少陽光的反（fǎn）射，增（zēng）加陽光的吸收率。
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